昆山书豪请求依据溅射坑描摹的辉光放电深度谱分析办法专利定量分析因溅射坑不平坦发生的畸变影响

时间: 2025-03-03 17:38:59 |   作者: 真空型等离子清洗机

产品介绍

  金融界2025年1月15日音讯,国家知识产权局信息数据显现,昆山书豪仪器科技有限公司请求一项名为“一种依据溅射坑描摹的辉光放电深度谱分析办法”的专利,公开号CN 119290850 A,请求日期为2024年12月。

  专利摘要显现,本发明公开了一种依据溅射坑描摹的辉光放电深度谱分析办法。该办法有:选用辉光放电光谱仪依照预设工作条件,对待测样品进行深度谱丈量,取得实践丈量深度谱;对进行深度谱丈量后的待测样品进行描摹检测,取得待测样品的溅射坑描摹;依据待测样品的溅射坑描摹和实践丈量深度谱,确认待测样品的实践膜层结构。本发明供给的办法,定量分析了因溅射坑不平坦对辉光放电深度谱分析发生的畸变影响,简化了深度谱分析流程,优化了需屡次试验尽量寻觅平坦溅射坑来削减差错的工序,供给了一种适用于恣意形状溅射坑描摹的辉光放电光谱仪深度谱定量分析办法。

  天眼查资料显现,昆山书豪仪器科技有限公司,成立于2012年,坐落苏州市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册本钱5000万人民币,实缴本钱1260万人民币。经过天眼查大数据分析,昆山书豪仪器科技有限公司共对外出资了2家企业,参加招投标项目92次,知识产权方面有商标信息9条,专利信息94条,此外企业还具有行政许可4个。