近来，我国武器配备集团公司成功研发出国内首套磁控溅射镀膜机，填补了该项目国内空白，完成了高精度溅射镀膜机的国产化，满意我国当时大批量、安稳镀制多种高品质精细光学薄膜的需求，为我国往后一段时期的镀膜机研发供给了方向。该机型由集团公司自主研发出产，具有彻底自主知识产权，其技能水平处于国内抢先，发明了国内镀膜机研发的4个第一次：第一次选用磁控溅射和电子蒸镀两套镀膜体系，将蒸镀技能与溅射技能在一台机器上完成成功掩盖，在国内初次具有了蒸镀和溅射两种功能为一体的两用机型，减少了设备的收购本钱和能源消耗；第一次在真空室的规划上选用双真空室，有利于提高工作效率、维护靶材和节能降耗；第一次运用了分子泵技能，使极限真空完成一次性合格；在操控部分第一次选用工控机操控，提高了设备的自动化程度，避免了人的要素形成的失误。