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  等离子刻蚀和堆积体系制造商牛津仪器公司(Oxford Instruments)日前宣告，在北京和台湾举行两场为期一天的研讨会，将聚集于纳米级等离子工艺。

  这两场研讨会之前，牛津仪器曾在我国举行一系列研讨会，招引了逾两百名参加者。

  这两场研讨会估计将别离于本年五月十四日在我国北京举行，五月十六日在台湾新竹工业技能研究院(ITRI)举行。

  除了牛津仪器公司等离子技能的处理和使用专家，该研讨会还将包含我国大陆、台湾和欧洲的多名讲演嘉宾和专家的讲话。

  每个为期一天的方案都将触及一系列主题，包含原子层堆积(ALD)、光伏(PV)、深硅刻蚀、发电设备、高亮度发光二极管(HBLED)和离子束技能。

  我国科学院北京半导体研究所杨福华表明：“两年前咱们曾与牛津仪器举行过此类研讨会，取得巨大成功，逾一百人参加。不相同的范畴的讲话人的讲演内容极佳，而且信息量相当大。这两场研讨会是在非正式场合下发现新技能的绝佳方法，而且有很多时刻与专家沟通。”

  开幕式讲话人牛津仪器等离子技能亚洲区业务经理Jeffrey Seah表明：“咱们期待在我国大陆和台湾的这两场研讨会有很多观众参加，而且十分侥幸如此多闻名的讲话人已承受咱们的约请，叙述他们在等离子工艺范畴的作业。咱们的研讨会为等离子工艺范畴供给一个重要的机会，走到一同共享他们的经历，而且更多了解各自范畴抢先的世界专家。”

  依据此前在北京和上海研讨会的成功，牛津仪器估计学术界和生产部门将热心参加。