近日半导体设备关键零部件射频和等离子系统供应商上海励兆科技向市场发布了具备多级脉冲功能(MLP, Multi-Level Pulsing)的半导体射频电源，该功能初期覆盖励兆旗下已有的13.56MHz和400KHz两个系列电源产品，即将推出的另一频段系列新产品也将具备此功能。

  在先进的半导体加工工艺中，等离子蚀刻作为过去十余年中发展变化最为迅速的半导体工艺技术之一，对于射频等离子电源的需求已经逐步从连续波模式（CW）运行到脉冲模式（ON-OFF，Level-to-Level）。在相关等离子刻蚀设备中，通常将源RF功率和偏置RF（一个或多个）功率施加到电极上;其中，源RF功率和偏置RF功率可设为为同步的脉冲信号，它们能共同定义具备多个多态脉冲RF周期以建立足够的刻蚀工艺裕量。而这些工艺裕量对于实现各种先进制程中的高深宽比（HAR）刻蚀是关键的也是必须的。

  先进半导体刻蚀设备厂商已普遍的使用多级射频脉冲功能来达成各种复杂的等离子体刻蚀工艺条件以保证他们刻蚀设备的工艺领先性。而具备多级脉冲功能的射频电源就是实现这种工艺领先的基础之一。

  励兆科技的创始团队来自海内外知名高校和研究机构，拥有多年先进半导体设备开发经验，超过十年的射频电源系统研发和制造经验，在基础研究，产品研究开发，工艺应用和市场拓展等多个角度有着深厚的积累。自2022年8月成立以来，团队放眼于该领域的最新技术和应用，定位于为国产半导体设备开发最先进的射频电源解决方案。经过一年多跨专业的高效配合，励兆研发团队在今年6月首发单级脉冲射频电源的基础上，加强完善产品功能，这次正式对外发布MLP多级脉冲射频电源产品。同时励兆也展示了多级脉冲在刻蚀工艺腔体内的实测波形（如下图）

  对于这次发布的新功能，励兆科技副总裁宋伟认为具备多级脉冲射频电源产品代表了励兆科技达到了这一技术领域的世界领先水平，需要团队有扎实射频功放产品工程技术和算法设计能力，并和半导体等离子体加工工艺深度结合才能为客户提供客制化的解决方案。

  励兆科技创始人赵馗博士则表示公司自成立之初就把为国内半导体设备厂商提供最先进射频等离子体解决方案作为自己的商业承诺，这次顺利发布多级脉冲射频电源产品是企业内部跨专业团队完美合作的结果。

  目前励兆科技已经开放该产品与客户间的合作与销售，并欢迎有兴趣的客户与励兆科技直接联系，联系邮箱是

  汇顶科技“打码控制及打码方法、系统、芯片、电子设备及存储介质”专利获授权

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