就在ASML的独占位置看似坚不可摧之际，一条新的路途悄然呈现。在EUV光刻机中，最重要的EUV光源部分，有了新的解决计划——EUV-FEL技能。这一新技能不只本钱更低，功率更高，技能更为先进，并且有着宽广的开展前景。

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  相较于旧有的“激光等离子体EUV光源（EUV-LPP）”计划，EUV-FEL技能省去了杂乱的锡珠蒸腾和二氧化碳激光器激起的进程，大大简化了生产流程，下降了本钱。一起，其功率转化率高达30%以上，远高于旧计划的3-5%，使得EUV光刻机的耗电量大幅度的下降，成为实在的绿色制作。

  更值得一提的是，EUV-FEL技能还能够晋级为BEUV-FEL技能，发生更短的波长（6.6-6.7 nm），进一步提升了分辨率，使得制作更先进的芯片成为可能。因而，科学家们共同以为，EUV-FEL光束将成为未来EUV光刻机的抱负光源。

  现在，美国、日本等国的科研机构渐渐的开端研讨这一技能，尽管短时间内还无法使用这一技能制作出EUV光刻机，但信任在不久的将来，这一技能将引领半导体制作业进入一个新的年代。到时，ASML的独占位置或许将遭到应战，而整个半导体职业也将迎来更为剧烈的竞赛和更为宽广的开展空间。

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