【48812】TCL科技请求薄膜制备办法专利进步薄膜在极点环境下的功用稳定性

时间: 2024-07-25 22:11:13 |   作者: 行业应用

  金融界2024年5月3日音讯,据国家知识产权局公告,TCL科技集团股份有限公司请求一项名为“薄膜的制备办法、光电器材与电子设备“,揭露号CN117979776A,请求日期为2022年10月。

  专利摘要显现,本请求揭露一种薄膜的制备办法、光电器材与电子设备,在薄膜的构成过程中,对坐落基板的一侧的薄膜资料来离子束炮击和氢离子束炮击处理,以使薄膜对水氧敏感度大幅度地下降,进步了薄膜在极点环境下的功用稳定性,所述光电器材中功用层的至少一种膜层选用所述薄膜的制备办法制得,然后进步光电器材在极点环境下的功用,将所述光电器材应用于电子设备中,有利于进步电子设备的光电功用、作业稳定性和使用寿命。

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